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EUV光刻为什么难
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通过这张图可以看到，EUV光刻不是单个“光源”问题，而是一条从锡滴等离子体、反射光学、掩模扫描、晶圆台运动到光刻胶响应的系统链路。每一层都在和能量损耗、真空环境、污染控制、同步运动、计量闭环做平衡。
互动评论（10 条）
1
EUV光刻中，锡滴等离子体光源最大的工程难点是什么？
2
EUV光刻为什么需要反射式光路，而不是传统透镜光路？
3
EUV光刻里的真空系统会怎样影响能量传输？
4
EUV光刻的掩模台和晶圆台为什么要高速同步？
5
EUV光刻中，收集镜效率下降会带来哪些连锁影响？
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EUV光刻的对准计量系统主要解决什么误差？
7
EUV光刻为什么对污染控制特别敏感？
8
EUV光刻里的光刻胶材料会影响哪些曝光结果？
9
EUV光刻的吞吐量瓶颈更可能出现在光源还是运动系统？
10
EUV光刻从低NA到高NA，光学结构会面临哪些新取舍？